アウラ アデューラ ヘアレゾリューション ベースメント cmc2
(処理剤)コルテックスやケラチン溶解の保護CMC前処理剤やテクスチャーコントロール1剤として使用して頂けます。
[特徴成分]セラミド1.2.3.5.6II.EOP.NP.AP・コレステロール・脂肪酸・フィトスフィンゴシン・18-MEA原液使用
[特徴成分]セラミド1.2.3.5.6II.EOP.NP.AP・コレステロール・脂肪酸・フィトスフィンゴシン・18-MEA原液使用
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